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晶圓鍍膜設備PECVD氣相沉積
簡要描述:

晶圓鍍膜設備PECVD氣相沉積在超大規模集成電路、光電器件、MEMS等領域具有廣泛的應用

  • 產品型號:CY-PECVD-500T-SS
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-11-17
  • 訪  問  量:165

詳細介紹

品牌CYKY

等離子增強型化學氣相淀積(PECVD)是化學氣相淀積的一種,其特點是在低溫下利用等離子體的激活作用來增強化學氣相沉積反應。這種方法的優點是沉積溫度低,沉積速率快,而且制得的薄膜具有優良的電學性能、良好的襯底附著性以及精確的臺階覆蓋性。

晶圓鍍膜設備PECVD氣相沉積應用領域:

等離子增強CVD系統可以用于:石墨烯制備、硫化物制備、納米材料制備等多種試驗場所??稍谄瑺罨蝾愃菩螤顦悠繁砻娉练eSiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜,并可沉積p型、n型摻雜薄膜。沉積的薄膜具有良好的均勻性、致密性、粘附性、絕緣性。廣泛應用于刀具、高精模具、硬質涂層、**裝飾等領域,PECVD氣相沉積在超大規模集成電路、光電器件、MEMS等領域具有廣泛的應用.

晶圓鍍膜設備PECVD氣相沉積  

晶圓鍍膜設備PECVD氣相沉積技術參數:  

產品名稱

PECVD氣相沉積

產品型號

CY-PECVD-500T-SS

腔體尺寸

φ500

溫區長度

200

射頻電源

500W-

溫度

1000℃-

前級泵

分子泵組

顯示類型

T

溫區

I-

水冷機

CW5200

腔體材質

SS

樣品加熱加熱溫度

RT-1000℃以上,溫控精度:±1°C,采用控溫表進行控溫;

可調轉速:1-20rpm可調

噴淋頭尺寸

Φ90mm,噴淋頭與樣品之間電極間距40-100mm在線連續可調(可根據工藝調整),并帶有標尺指數顯示

樣品臺

直徑200mm

沉積工作真空

0.133-133Pa(可根據工藝調整)

頂部法蘭

可通過馬達提升,基板更換方便,有可視口

基板臺

基板臺的線性和方位角運動,基板加熱和溫度控制,安裝臺和觸摸屏控制,基板線性運動是手動控制的,基板旋轉是由直流電動機控制的

真空腔體

前開門式,φ500mm X 500mm 不銹鋼材質

觀察窗

φ100mm 帶擋板

質量流量計

六路質量流量計

氣路數量

六路

承壓范圍

-0.15Mpa~0.15Mpa

量程

0~100 SCCM(氧氣)

0~100 SCCM(CF4)

0~200 SCCM (SF6)

0~200 SCCM (氬氣)

0~500 SCCM (其他氣體空氣)

0-500sccm (其他氣體氮氣)

流量控制范圍

±1.5%

氣路材料

304不銹鋼

管道接口

6.35mm卡套接頭

真空系統

前級泵:無油真空泵4.7L/S

分子泵:1200L/S

測量范圍

1×10-5~1×105Pa

測量精度

1×10-5~1×10-4Pa ±40%的讀數

1×10-4~1×105Pa ±20%的讀數





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