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卷對卷PECVD石墨烯制備設(shè)備主要應(yīng)用于計算機(jī)和智能手機(jī)屏幕，超輕、柔性的太陽能電池，以及新型的發(fā)光設(shè)備和其他薄膜電子產(chǎn)品

半導(dǎo)體PECVD設(shè)備氣相沉積系統(tǒng)適用于在光學(xué)玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，成膜質(zhì)量好，針孔較少，不易龜裂，適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件，可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

單溫區(qū)旋轉(zhuǎn)PECVD石墨烯制備系統(tǒng)用于制備石墨烯，是一種 “低溫、直接生長” 的技術(shù)。它尤其適合在非金屬基底（如絕緣襯底）上生長石墨烯，避免了從金屬催化劑轉(zhuǎn)移的復(fù)雜過程

卷對卷式太陽能電池片PECVD氣相沉積系統(tǒng)是等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積設(shè)備（PECVD），并加裝了收放卷裝置。本設(shè)備可用于線材的連續(xù)化熱處理工藝中，如碳纖維制備、合金及其他材料線材改性處理等應(yīng)用中。也適合用于石墨烯在卷材上的連續(xù)生長。

二氧化硅薄膜沉積等離子增強(qiáng)CVD系統(tǒng)由等離子發(fā)生器，三溫區(qū)管式爐、單溫區(qū)管式爐、射頻電源、真空系統(tǒng)組成。等離子增強(qiáng)CVD系統(tǒng)為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行，利用了等離子體的活性來促進(jìn)反應(yīng)。

CY-PECVD50R-1200-Q是一款光學(xué)薄膜PECVD等離子增強(qiáng)型CVD系統(tǒng)。此系統(tǒng)由150W射頻電源、單溫區(qū)管式爐、3通道質(zhì)子流量計控制系統(tǒng)、性能優(yōu)異的真空泵組成。