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大尺寸自動流延涂覆機加熱溫度可達100℃，采用真空吸附來固定襯底，使得涂敷過程中襯底不會起褶皺，從而使得涂敷更加順暢。自動流延涂覆機中配有一精密的可調制膜器，移動推桿以恒定的速度推動其勻速移動，從而達到漿料涂覆在基底上的均勻性。加熱真空床：加熱真空床由鋁合金制成，帶有微型孔真空吸盤尺寸：600mm（長）×300mm（寬）×22mm（高）加熱元件內置在真空床內，可均勻加熱至100oC*大值精密數字溫度控制器，精度為+/-1℃刮膜器：包括一個250mm寬的千分尺可調式涂膜器，厚度...

粉末涂覆法制備CIGS薄膜的詳細工藝流程第一步：前驅體粉末制備這是整個工藝的基礎。通常有兩種路徑：直接使用商業購買的Cu、In、Ga、Se的單質或合金粉末。這些粉末需要具有高純度（通常99.99%）和合適的粒徑（通常在微米級或亞微米級）。自行合成CIGS前驅體粉末：通過共沉淀法、球磨合金化法等方法，預先合成出具有特定化學計量比的（CuInGa）Se?粉末。這種方法可以更好地控制最終薄膜的組分均勻性。第二步：漿料配制這是最關鍵的技術環節之一。將前驅體粉末與特定的溶劑和添加劑混合...

傳統勻膠機通常只有一個固定的滴膠頭或靜態噴頭，通過中心滴膠或靜態噴灑的方式將光刻膠覆蓋在基片上，然后通過高速旋轉產生的離心力使膠體鋪展均勻。四噴頭超聲波勻膠機則是一種革命性的設計。它集成了以下核心部件：四個獨立的超聲波壓電噴頭：這是其名稱的由來。每個噴頭都是一個獨立的、精密的液體分配單元。高精度機械臂：這四個噴頭被安裝在一個多自由度的機械臂上，可以精確控制噴頭在基片上方進行復雜的三維運動。超聲波霧化技術：利用高頻超聲波振動將液體“撕裂”成極其微小且均勻的霧狀液滴（通常直徑在微...

1.SPS技術簡介放電等離子燒結是一種先進的粉末快速固結技術。它通過將脈沖直流電直接通過石墨模具和粉末顆粒，實現內部加熱和燒結。與傳統熱壓（HP）或熱等靜壓（HIP）相比，SPS具有以下獨特之處：快速升溫和冷卻：加熱速率可達幾百攝氏度每分鐘，能極大縮短工藝周期。放電效應：在粉末顆粒之間產生的瞬時脈沖放電，可以活化顆粒表面，清除氧化物污染，促進物質遷移和擴散。壓力輔助：在整個燒結過程中施加軸向壓力，有助于粉末致密化。這些特點使得SPS非常適合制備細晶、高性能的金屬材料，包括對氧...

電阻熔煉爐主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、五工位水冷銅坩堝、翻轉機械手、工作氣路、系統抽氣、真空測量及電氣控制系統、安裝機臺等各部分組成。本產品主要由電弧熔煉真空室、上電極、下電極及爐門開啟機構、上電極電動升降機構，真空系統及電弧電源系統等組成。電弧熔煉真空室：采用雙層水冷結構，內外層為不銹鋼組焊接而成，并做表面啞光處理，內壁精密拋光處理。爐體上設有翻轉機械手，用于樣品的熔煉翻轉。設有觀察窗，真空接口，充放氣閥等，爐蓋上設有上電極接口，結構新穎外形美觀大方。上電極...

放電等離子燒結爐是一種利用電磁場產生的等離子體能量對材料進行加熱和燒結的設備。該設備采用高頻放電技術，將氣體轉化為等離子體，在等離子體中產生高能電子，使材料表面和內部發生劇烈碰撞，從而實現快速加熱和燒結。放電等離子燒結爐廣泛應用于材料加工、表面涂層和新材料研發等領域，其特點包括加熱速度快、溫度均勻、能耗低、污染少等。設備準備與參數設置：?模具與樣品裝填?：使用石墨模具（耐溫≥1600℃），確保粉體均勻填充且密度適中，避免局部堆積導致燒結不均?。模具內徑需匹配樣品尺寸，通常預留...

熱蒸發鍍膜儀是一種在真空環境中通過高溫加熱材料使其氣化，并在基底表面沉積形成薄膜的工藝試驗儀器，廣泛應用于新能源、半導體、光學、生物醫學及日常工業領域。其核心原理是通過電阻加熱、電子束轟擊或感應加熱等方式，使固態材料（如金屬、介電質或有機物）在真空腔體內達到蒸發溫度（通常200℃-3000℃），氣態粒子通過氣流輸運至基底表面，經冷卻凝結形成均勻薄膜。設備真空度要求嚴格，一般需低于10??Pa，以防止材料氧化并減少氣態粒子與殘余氣體的碰撞，確保薄膜純度。熱蒸發鍍膜儀的技術特點介...

電阻蒸發鍍膜儀是一種基于電阻加熱原理，在真空環境中實現金屬或合金材料蒸發沉積的精密設備，廣泛應用于科研與工業領域，為材料表面賦予導電、隔熱、耐磨、裝飾等多樣化功能。其該設備通過大電流通過鎢、鉬等高熔點金屬蒸發源（如船型蒸發舟），利用電阻焦耳熱效應使蒸發源內金屬材料熔融汽化。汽化后的原子在真空腔體（真空度通常達10?3~10??Pa）中沿直線運動，遇冷基材后凝結形成致密薄膜。例如，在鈣鈦礦太陽能電池制造中，可在120mm見方基片上沉積均勻鋁電極，膜厚均勻度控制在±...

半導體鍍膜磁控濺射儀是半導體制造與材料科學領域的關鍵設備，其通過物理氣相沉積技術，在基體表面形成均勻、致密的高性能薄膜，廣泛應用于芯片制造、光學器件、新能源電池等前沿領域。其利用磁場約束等離子體，通過異常輝光放電產生高能氬離子（Ar?），轟擊靶材表面使其原子或分子濺射，并在基片上沉積形成薄膜。其技術核心在于磁場與電場的協同作用：電子在E×B漂移效應下沿螺旋軌跡運動，顯著延長了與氬氣的碰撞路徑，使等離子體密度提升10倍以上，從而大幅提高濺射效率。半導體鍍膜磁控濺射儀的主要特點包...

真空磁控濺射鍍膜機是基于“磁控濺射技術”的高d薄膜制備設備，通過在真空環境中利用磁場束縛電子、加速離子轟擊靶材，使靶材原子/分子脫離并沉積在基材表面，形成均勻、致密的功能薄膜，廣泛應用于電子、光學、裝飾、新能源等領域，是現代工業薄膜制備的核心裝備之一。其核心工作原理圍繞“真空+磁控”展開：設備先通過真空泵組將鍍膜腔抽至10?3-10??Pa的高真空環境，排除空氣雜質對膜層的影響；隨后向腔體內通入氬氣等惰性氣體，在磁控靶（鍍膜材料，如金屬、陶瓷、合金等）與基材之間施加高壓，使惰...

磁控濺射鍍膜儀是一種基于物理氣相沉積（PVD）技術的高精度表面鍍膜設備，通過磁場約束等離子體實現高效、均勻的薄膜制備，廣泛應用于電子、光學、機械加工及新能源等領域。其設備在真空環境中施加正交電磁場，電子在電場作用下與氬原子碰撞產生電離，生成氬離子和二次電子。氬離子在電場加速下轟擊固態靶材，濺射出中性靶原子或分子，沉積在基片表面形成薄膜。二次電子受磁場約束（E×B漂移效應）在靶表面做圓周運動，延長運動路徑并提高電離效率，從而實現高沉積速率。同時，電子能量在多次碰撞后逐漸耗盡，最...

實驗室旋涂儀是一種廣泛應用于材料科學、半導體制造、微電子、光學及生物醫學等領域的核心設備，其核心功能是通過高速旋轉產生的離心力，在基片（如硅片、玻璃片、聚合物片等）表面均勻涂覆液體薄膜（如光刻膠、聚合物溶液、生物材料等）。其工作原理可分為三個階段：首先將液體材料滴加至靜止或低速旋轉的基片中心，隨后電機驅動基片加速至設定轉速，離心力使液體從中心向外鋪展形成均勻薄膜，最終通過溶劑揮發（針對含溶劑體系）或直接固化形成固態或半固態薄膜。實驗室旋涂儀的技術特點：一、高精度控制：薄膜均勻...