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2025-8-19
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點,鍍膜速率高,樣品溫升低,是...
2025-8-19
桌面型小型蒸發(fā)鍍膜儀,可提供*大100A的鍍膜電流,最大蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃,...
2025-8-11
靜電紡絲機(jī)能夠提供連續(xù)穩(wěn)定流量的液體,且供液速度可調(diào)能夠滿足不同類型紡絲溶液的需...
2025-8-11
晶體生長爐配有2英寸的石英管,精密提拉機(jī)。用于在氣氛保護(hù)環(huán)境下或密封石英坩堝環(huán)境...
2025-8-11
桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備...
2025-8-11
設(shè)計用于在加熱或熔化過程中攪拌樣品以獲得更均勻的反應(yīng)。搖擺臺可自動設(shè)置搖擺頻率和...
2025-8-11
熱蒸發(fā)鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。...
2025-8-11
真空快速熱壓爐將真空/氣氛、熱壓成型、高溫?zé)Y(jié)結(jié)合在一起,適用于粉末冶金、功能陶...
2025-8-11
下置四靶磁控鍍膜儀為桌面型靶下置型磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計,將設(shè)備外形限制...
2025-8-8
本設(shè)備是一款真空快速熱壓爐(VRHP),專為真空(或氣氛保護(hù))環(huán)境下通過快速熱壓...
2025-8-7
PLD脈沖激光濺射沉積設(shè)備系列設(shè)備主要用于生長光學(xué)晶體、鐵電體、鐵磁體、超導(dǎo)體和...
2025-8-7
三溫區(qū)真空管式爐(直徑100mm,長度1400mm)主要用于稀土制備、電子照明、...
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