四噴頭超聲波勻膠機旋涂機是一款用于在基片上涂覆光刻膠或其他功能性液體的gaoduan、高精度的半導體及微納加工設備。它代表了勻膠技術的最新發展方向，尤其適用于復雜結構和非平面襯底的涂膠

傳統勻膠機通常只有一個固定的滴膠頭或靜態噴頭，通過中心滴膠或靜態噴灑的方式將光刻膠覆蓋在基片上，然后通過高速旋轉產生的離心力使膠體鋪展均勻。

四噴頭超聲波勻膠機則是一種革命性的設計。它集成了以下核心部件：

四個獨立的超聲波壓電噴頭：這是其名稱的由來。每個噴頭都是一個獨立的、精密的液體分配單元。

高精度機械臂：這四個噴頭被安裝在一個多自由度的機械臂上，可以精確控制噴頭在基片上方進行復雜的三維運動。

超聲波霧化技術：利用高頻超聲波振動將液體“撕裂"成極其微小且均勻的霧狀液滴（通常直徑在微米級別），然后通過載氣將其噴射出去。

協同控制系統：一個復雜的軟件系統，可以同步控制每個噴頭的開關、流量、以及機械臂的運動軌跡。

一．工作原理簡述：

它不是簡單地將膠水滴在中心，而是像一臺“3D打印機"或“噴墨打印機"一樣，通過程序控制四個噴頭，按照預設的路徑在基片表面進行掃描式噴涂。每個噴頭可以獨立工作，也可以協同作業，從而實現qian所未有的涂覆均勻性和靈活性。

二．核心優勢：

與傳統勻膠機相比，四噴頭超聲波勻膠機具有壓倒性的優勢：

1.jigao的均勻性：

2.zuo越的臺階覆蓋性與保形性：

3.ji高的材料利用率：

4.出色的兼容性與靈活性：

5.減少缺陷：

三．機應用領域：

由于其獨特的技術優勢，四噴頭超聲波勻膠機主要應用于對涂膠工藝要求ji高的前沿科技領域：

1.*半導體制造：

2.MEMS（微機電系統）

3.化合物半導體與功率器件：

4.光子器件與光學元件：

5.顯示技術：

6.科研與前沿探索：

四．四噴頭超聲波勻膠機旋涂機技術參數：