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等離子濺射和碳蒸發二合一鍍膜儀是一款二合一緊湊型涂層裝置，配有雙級旋轉葉片真空泵，可將等離子濺射和蒸發集成到一臺小型機器中。等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀專門用于制備SEM和EDAX樣品，低成本下用于材料分析中的微觀結構和微區成分分析，可以涂覆各種材料，包括碳。

碳鎢蒸發等離子濺射復合鍍膜儀可進行真空蒸碳、真空熱蒸發和等離子濺射，它也可以在高純氬氣的保護之下進行多種離子處理，蒸發等離子濺射復合鍍膜儀采用機械泵和分子泵，實現高真空。

等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。儀器元件高度集成化，在同一個腔體內即實現了兩種鍍膜功能；本鍍膜儀采用304不銹鋼腔體作真空腔體，鍍膜過程可見。儀器標配雙極旋片真空泵，能夠快速達到1.0E-3Pa的真空度,極限真空度1.0E-5Pa，可滿足大多數蒸發鍍膜實驗和二極濺射實驗所需的真空環境。

雙靶磁控及蒸發復合鍍膜儀包括不銹鋼真空腔體、磁控濺射靶，蒸發鍍膜裝置，放置樣品的樣品臺，真空泵機組、真空測量規管，進氣系統和控制系統組成。可用于電子產品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。

桌面型二合一鍍膜儀可用于電子產品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM（掃描電鏡）的樣品制備

熱蒸發與等離子鍍膜復合型鍍膜儀適用于掃描電鏡樣品表面噴金、蒸金噴碳等操作，以及非導體材料試驗電極的制作等