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詳細介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 價格區間 | 5萬-10萬 |
|---|---|---|---|
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 地礦,能源,建材/家具,電子/電池,鋼鐵/金屬 |
CY-MS500S-2TA1S雙靶磁控及蒸發復合鍍膜儀可用于電子產品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM（掃描電鏡）的樣品制備。
設備主要由不銹鋼真空腔體、磁控濺射靶，蒸發鍍膜裝置，放置樣品的樣品臺，真空泵機組、真空測量規管，進氣系統和控制系統組成。
設計特色
1. 設備主機采用觸摸顯示屏操作，溫控表檢測。其數字化參數界面和自動化操作方式為用戶提供了優良的研發平臺。
2. 真空室采用下置靶設計，樣品臺具有加熱和旋轉但是功能，可以使鍍膜效果更加均勻。
3. 設備真空獲得系統采用兩級真空泵組，前級泵為大抽速機械泵，有效縮從常壓至低真空的時間，主泵為渦輪分子泵，抽速高，真空獲取速度更快。 整體真空獲得系統干凈快速。
4. 真空腔體采用304不銹鋼制成，配有觀察窗口及擋板。造型美觀做工精細，真空性能優異。
5. 主要密封法蘭采用 CF系列高真空密封法蘭。真空腔體各接口均采用橡膠密封圈密封，真空性能優良，能有效保證鍍膜質量。
技術參數：
磁控濺射頭 數量 2英寸 x2 冷卻方式 水冷 蒸發系統 蒸發源 鎢絲籃 *高溫度 1800℃ 真空腔體 腔體尺寸 φ325mm X 600mm 觀察窗口 φ100mm 腔體材料 304不銹鋼 開啟方式 前開門式 真空系統 機械泵 旋片泵 抽氣接口 KF16 抽氣速率 1.1L/s 分子泵 渦輪分子泵 抽氣接口 CF150 抽氣速率 600L/s 排氣接口 KF40 真空測量 電阻規+電離規 極限真空 1.3x10-4Pa 供電電源 AC;220V 50/60Hz 電源配置 直流電源數量 1臺 輸出功率 ≤1500W 輸出電壓 ≤600W 響應時間 ＜5ms 射頻電源數量 1臺 輸出功率 ≤1500W 功率穩定度 ≤5W 射頻功率 13.56MHz 射頻穩定度 ±0.005% 膜厚監控系統 膜厚儀測量分辨率 ±0.03Hz 測量精度 ±0.5% 測量上限 50000 測量速度 100~1000ms 水冷系統 水箱容積 9L 流量 10L/min 供氣系統 流量計類型 質量流量計 量程 200sccm 氣體類型 Ar氣 其他 供電電壓 AC220V,50Hz 整機功率 4kw（主機+真空泵） 整機尺寸 1000x950x1300mm 整機重量 295kg
樣式一：尺寸150mm，加熱溫度≤500℃ 控溫精度±1℃， 旋轉速度1-20r/min
樣式二：尺寸φ150mm，高度 上下70mm精準可調，旋轉速度1~20rpm，加熱溫度 0~500℃
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