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等離子濺射和蒸發二合一鍍膜機配備了直流濺射靶和熱蒸發組件,不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜,也可以用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。
小型高真空等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件,不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜,也可以用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。
等離子濺射蒸發二合一鍍膜儀,可用于電子產品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM(掃描電鏡)的樣品制備。
等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件,不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜,也可以用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。儀器元件高度集成化,在同一個腔體內即實現了兩種鍍膜功能;本鍍膜儀采用304不銹鋼腔體作真空腔體,鍍膜過程可見。儀器標配雙極旋片真空泵,能夠快速達到1.0E-3Pa的真空度,極限真空度1.0E-5Pa,可滿足大多數蒸發鍍膜實驗和二極濺射實驗所需的真空環境。本儀器體積小,節省空間,能夠置于試驗臺上使用,一機多用,性價比突出,非常適合各大高校及研究機構選用。
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