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桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍是一種的物理氣相沉積設備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術，通過磁場增強離子化效率，從而實現高質量、均勻的薄膜沉積。

桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍是一種的物**相沉積設備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術，通過磁場增強離子化效率，從而實現高質量、均勻的薄膜沉積

D型腔體單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等

矩形腔室磁控濺射鍍膜儀是一種利用磁控濺射技術進行薄膜沉積的高精度設備.其核心原理是通過在真空環境下，利用高能離子轟擊靶材，使靶材原子或分子濺射出來并沉積在基片表面，形成均勻的薄膜

桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種緊湊型鍍膜設備，采用磁控濺射技術在基片表面沉積薄膜

本設備為桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀不銹鋼腔體，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備