桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍是一種的物理氣相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過(guò)磁場(chǎng)增強(qiáng)離子化效率，從而實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量、均勻的薄膜沉積。

產(chǎn)品型號(hào)：CY-MSZ254-II-DCRF-SS
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2025-11-17
訪問(wèn) 量：233

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品牌	CYKY	價(jià)格區(qū)間	10萬(wàn)-30萬(wàn)
產(chǎn)地類(lèi)別	國(guó)產(chǎn)	應(yīng)用領(lǐng)域	電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車(chē)及零部件

桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍是一種的物理氣相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過(guò)磁場(chǎng)增強(qiáng)離子化效率，從而實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量、均勻的薄膜沉積。

磁控濺射鍍膜儀產(chǎn)品特點(diǎn)：

• 高效鍍膜：采用磁控濺射技術(shù)，沉積速率高，薄膜均勻性好。
• 多功能應(yīng)用：支持多種靶材和基材，適用于不同材料的薄膜沉積。
• 智能控制：配備的控制系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)的工藝參數(shù)控制。
• 模塊化設(shè)計(jì)：方便維護(hù)和升級(jí)，可根據(jù)需求定制各種功能模塊。

• 環(huán)境友好：低能耗設(shè)計(jì)，減少對(duì)環(huán)境的影響。

桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍技術(shù)參數(shù)：

參數(shù)名稱	參數(shù)說(shuō)明
產(chǎn)品名稱	桌面型前開(kāi)門(mén)雙靶磁控濺射鍍膜儀
產(chǎn)品型號(hào)	CY-MSZ254-II-DCRF-SS
真空腔	腔體材質(zhì)	304不銹鋼焊接而成，表面做拋光處理
	取放模式	前開(kāi)門(mén)方式取放樣品和靶材
	觀察窗	直徑100mm真空窗口，配有磁力擋板，防止污染
樣品臺(tái)	樣品尺寸	直徑≦100mm的平面樣品均可
	旋轉(zhuǎn)速度	不旋轉(zhuǎn)和旋轉(zhuǎn)型（0-30RPM）可選
	加熱溫度	RT-500℃;RT-800℃;RT-1000℃可選
磁控靶	靶槍類(lèi)型	普通永磁靶，可調(diào)角度
	靶材尺寸	直徑2英寸，厚度≦3mm,
	濺射功率	300W
	濺射方式	直流濺射
	工作真空	0.3-3Pa
電源	直流電源 300W *2
濺射氣體	高純氬氣，純度99.99%
真空測(cè)量	復(fù)合真空計(jì)，電阻規(guī)+電離規(guī)，測(cè)量范圍：105-10-5Pa
真空獲取	前級(jí)泵	抽速 1.1L/S
	分子泵	抽速 600L/S
膜厚測(cè)量	通常配CYKY膜厚測(cè)量?jī)x
	也可選配進(jìn)口品牌，價(jià)格額外計(jì)算
外形尺寸	550mm350mm450mm
包裝尺寸	770×720*730mm
包裝重量	110 KG

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