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真空磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成。真空磁控濺射鍍膜儀廣泛應用于科研院所、實驗室制備單層或多層薄膜，以及新材料、新工藝研究。

可程控磁控濺射鍍膜儀為單腔室結構，主要由濺射真空室、磁控濺射靶、離子轟擊、公轉基片臺、光加熱系統、濺射電源、工作氣路、真空獲得系統、安裝機臺、真空測量、水冷卻及報警系統和控制系統等組成。