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桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀不銹鋼腔體
簡要描述:

本設備為桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀不銹鋼腔體,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備

  • 產品型號:CY-MSZ254-II-DC-SS
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-11-17
  • 訪  問  量:216

詳細介紹

品牌CYKY價格區間5萬-10萬
產地類別國產應用領域電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件

本設備為桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀不銹鋼腔體,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備。 本套配置采用高真空不銹鋼腔體,腔體設置帶擋板的石英觀察窗,便于實驗的觀察記錄;腔體設計真空性能優良,造型小巧,十分適合實驗室使用。同時設備配有旋轉加熱樣品臺,可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。整機采用模塊化設計,操作邏輯簡單,操作界面直觀,利于上手。

磁控鍍膜儀典型應用:

•    科研領域:納米材料、薄膜器件、光學涂層等研究。

•    電子行業:半導體、傳感器、導電薄膜制備。

•    教學演示:材料科學、真空技術實驗教學。

•    以下是磁控鍍膜儀的典型實用案例,涵蓋科研、工業及教學領域,體現其多功能性和廣泛應用價值:


桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀不銹鋼腔體技術參數:

產品名稱

桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控濺射鍍膜儀

產品型號

CY-MSZ254-II-DC-SS

樣品臺

外形尺寸

φ100mm

可調轉速

≦20rpm

磁控靶槍

配兩支兩英寸磁控靶,靶材尺寸:直徑50.8mm,厚度≦3mm

真空腔體

腔體尺寸

φ254mm X 300mm

觀察窗口

前置式

腔體材料

304不銹鋼

開啟方式

上蓋開啟及前開門

真空系統

前級泵

雙極旋片泵

分子泵

大抽速渦輪分子泵

真空測量

復合真空計,量程:10-5~105Pa

抽氣接口

ISO63

排氣接口

KF16

系統真空

1.0×10-4Pa

供電電源

AC 220V 50/60Hz

抽氣速率

前級泵抽速1.1L/s

輸出功率

直流電源500W

其他參數

供電電壓

AC220V,50Hz

整機功率

2kW

整機尺寸

710*480*580


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