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全自動CVD滑軌爐氣相沉積系統
簡要描述:

全自動CVD滑軌爐氣相沉積系統由雙溫區滑軌爐、質子流量控制系統、真空系統三部分組成。雙溫區滑軌爐可移動并可實現快速升降溫;四路質子流量計能夠準確控制系統的供氣;全自動CVD滑軌爐真空泵可實現對管式爐快速抽真空。

  • 產品型號:CY-CVD1200-50-4TH-Q
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-11-17
  • 訪  問  量:166

詳細介紹

品牌CYKY

全自動CVD滑軌爐氣相沉積系統由雙溫區滑軌爐、質子流量控制系統、真空系統三部分組成。雙溫區滑軌爐可移動并可實現快速升降溫;四路質子流量計能夠準確控制系統的供氣;全自動CVD滑軌爐真空泵可實現對管式爐快速抽真空。

全自動CVD滑軌爐氣相沉積系統操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處,使樣品能得到一個快速的升溫速度,同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處,使樣品直接暴露在室溫環境下,得到快速的降溫速率。  

適用于高校、科研院所、工礦企業做石墨烯的生長、高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火,尤其適合需要快速升降溫的CVD試驗。  


全自動CVD滑軌爐技術參數:  


項目  

明細  

供電電壓  

AC220V,50Hz  

整機功率  

5KW  

工作溫度  

≤1100℃  

加熱速率  

建議10℃/min  

爐管尺寸  

O.D.50mm-220mm-220mm(加熱區)-1200mm管長  

控溫精度  

0.1℃  

溫區  

雙溫區  

混氣系統  

4路質子流量計:100sccm1個;200sccm1個;500sccm2個  

真空泵  

雙極旋片真空泵  

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