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派瑞林真空氣相沉積是一種專業的產品，用于在材料表面上制備薄膜。它采用了在真空環境中使用氣相化學反應來沉積薄膜的過程。這種技術可以廣泛應用于各種行業，包括電子、光學、納米科技等領域

1200℃三溫區高真空CVD氣相沉積系統是一種用于制備高性能固體材料薄膜的技術。其核心原理是：將含有構成薄膜元素的一種或幾種氣態反應物通入反應室，在基片（如硅片）表面發生化學反應，并生成固態薄膜沉積下來。

1500℃單溫區3路浮子供氣高真空CVD氣相沉積由1500℃單溫區管式爐、三路浮子流量計和高真空分子泵組組成。管式爐由精密控溫儀表進行PID控溫，可編輯30段升降溫程序，同時有過熱和斷偶保護功能。1500℃單溫區高真空CVD系統爐管兩側法蘭配有數字式真空計和機械式壓力表，可以用來控制爐管內的氣氛環境。

全自動CVD滑軌爐氣相沉積系統由雙溫區滑軌爐、質子流量控制系統、真空系統三部分組成。雙溫區滑軌爐可移動并可實現快速升降溫；四路質子流量計能夠準確控制系統的供氣；全自動CVD滑軌爐真空泵可實現對管式爐快速抽真空。

1200℃三溫區三通道混氣CVD氣相沉積系統是一種用于制備高性能固體材料薄膜的技術。其核心原理是：將含有構成薄膜元素的一種或幾種氣態反應物通入反應室，在基片（如硅片）表面發生化學反應，并生成固態薄膜沉積下來。

1200℃三溫區旋轉CVD氣相沉積系統安裝有投料器和收料罐。1200℃三溫區旋轉自動進出料CVD系統投料器可以以額定速率將粉料送入爐管，可實現在氣氛保護的環境下連續對粉末材料用CVD方法進行包裹和修飾。收料罐可以在氣氛保護環境下對處理好的料粉進行收集。