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1200℃三溫區三通道混氣CVD氣相沉積系統
簡要描述:

1200℃三溫區三通道混氣CVD氣相沉積系統是一種用于制備高性能固體材料薄膜的技術。其核心原理是:將含有構成薄膜元素的一種或幾種氣態反應物通入反應室,在基片(如硅片)表面發生化學反應,并生成固態薄膜沉積下來。

  • 產品型號:CY-CVD1200-60-3TH-Q
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-11-17
  • 訪  問  量:155

詳細介紹

品牌CYKY

1200℃三溫區三通道混氣CVD氣相沉積系統由三溫區管式爐和三路浮子流量計組成。管式爐三個溫區分別由精密控溫儀表獨立控溫,通過調節各個溫區的溫度,該管式爐可以在加熱區內形成三段溫度梯度或是形成較長的恒溫區域。1200℃三溫區三通道混氣CVD系統每個溫區均可編輯30段升降溫程序,同時有過熱和斷偶保護功能。爐管兩側法蘭配有數字式真空計和機械式壓力表,可以用來控制路管內的氣氛環境。

1200℃三溫區三通道混氣CVD氣相沉積系統采用全彩高清觸控屏操作,簡單易上手,即使是非專業人員經過簡單的培訓也可以熟練掌握儀器的使用方法,能夠極大的提高您的實驗效率。系統所配有的三路浮子流量計,可以較為準確的配制出實驗所需的混合氣體;另有一壓力表安裝在浮子流量計正面,可以監測氣體壓力及混合槽壓力。  

適用于高校、科研院所、工礦企業做高溫燒結、金屬退火、質量檢測等,尤其適合需要多種氣體混合的氣氛環境的CVD實驗。
  

1200℃三溫區三通道混氣CVD系統技術參數:  

 

項目  

明細  

供電電壓  

AC220V,50Hz  

MAX功率  

5KW  

加熱溫區  

220mm+440mm+220mm  

工作溫度  

1100℃ (1200℃<1h)  

控溫精度  

±1℃  

升溫速率  

建議≤10℃/min  

控溫方式  

AI-PID 30段工藝曲線,可存儲多條  

三溫區獨立控制,帶有過熱和斷偶保護  

爐管材質  

高純石英  

爐管尺寸  

φ60mm O.D×1300mm L  

氣體通道  

三通道質量流量計  

氣體量程  

A:100sccm   B:300sccm  C:500sccm  

系統真空  

5~10Pa(如需更高真空度可以選配其他的泵)  

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