全自動多層鈣鈦礦旋涂儀勻膠機適用于鈣鈦礦材料的涂膜，半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機實現滴膠、旋涂、烘干的整個過程自動完成；可同時交替涂覆兩種薄膜，兩種液體各交替*多500次，實現千層薄膜的涂覆。本機可用于酸、堿性涂覆溶液的涂膜制備。設備標配不同尺寸的真空吸盤，可根據樣品尺寸不同選擇不同的真空吸盤，利用真空吸附的方式固定基片。該機主要應用于各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。

全自動多層鈣鈦礦旋涂儀勻膠機主要特點：

1、真空吸附方式固定樣件，操作簡便。

2、使用定位工具可將樣件很容易地放在中心位置，以減少偏心而造成的震動或飛片。

3、根據樣件規格可以配用不同的吸盤，且更換方便簡單。

4、電機采用24V直流無刷電機，可靠性高，適應性強，維修與保養簡單，噪音低，震動小，運轉平穩，啟動快速穩定，加速后運行平穩，可以保證涂層厚度的一致性和均勻性。

5、采用無油真空泵，體積小巧、結構簡單、操作容易、維護方便、不會污染環境等優點。

6、腔體采用聚四氟乙烯材質，使用壽命更長，耐化學腐蝕性和優異的抗應力開裂性能；機身采用鈑金結構，結實耐用且質輕。

7、加熱后可通氣體進行快速冷卻。

8、中文操作界面（全英文操作系統可選）

9、具有開蓋保護功能，當涂膜過程中或涂膜結束時打開上蓋后機器立刻迅速減速直到停止。

10、控制界面采用觸摸屏控制，操作簡單方便，顯示直觀。

11、全自動的涂膜過程：自動滴膠、自動通氣、自動旋涂、自動烘干。

12、可兩種液體交替涂膜，*多可涂1000層薄膜。

技術參數：