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高真空多弧離子鍍膜儀
簡要描述:

CY- MIOP500 為高真空多弧離子鍍膜儀,制備多元非晶合金,制備金屬化合物,如氧化物和氮化物薄膜(氧氣或氮氣氛圍),制備納米顆粒催化劑膜,用熱電材料靶材制備熱電效應(yīng)薄膜

  • 產(chǎn)品型號:CY-MS500S-2TA1S
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-11-16
  • 訪  問  量:185

詳細介紹

品牌其他品牌價格區(qū)間5萬-10萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域地礦,能源,建材/家具,電子/電池,鋼鐵/金屬

簡單介紹:

高真空多弧離子鍍膜儀制備多元非晶合金,制備金屬化合物,如氧化物和氮化物薄膜(氧氣或氮氣氛圍),制備納米顆粒催化劑膜,用熱電材料靶材制備熱電效應(yīng)薄膜。




詳情介紹:

高真空多弧離子鍍膜儀利用電弧放電將導(dǎo)電材料離子化,利用其繞射性好的優(yōu)勢,產(chǎn)生高能離子并沉積在基底上(特別是泡沫鎳等多孔基底),制備納米級薄膜鍍層或納米顆粒。主要由鍍膜室、多弧靶、多弧電源、脈沖偏壓電源、樣品臺、加熱、真空系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏半自動控制系統(tǒng)等組成;該設(shè)備主機與控制一體化設(shè)計,操控方便;結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小。該系列設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實驗以及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實驗及開發(fā)新產(chǎn)品等,深受廣大用戶好評。

高真空多弧離子鍍膜儀

主要用途:

 制備多元非晶合金,制備金屬化合物,如氧化物和氮化物薄膜(氧氣或氮氣氛圍),制備納米顆粒催化劑膜,用熱電材料靶材制備熱電效應(yīng)薄膜。

技術(shù)參數(shù):

 

 

1.真空腔室

Ф500×H420mm,304 上等不銹鋼,前開門結(jié)構(gòu); 腔室加熱溫度:室溫~350±1℃;

2.真空系統(tǒng)

復(fù)合分子泵+直聯(lián)旋片泵+高真空閥門組合的高真空系統(tǒng),數(shù)顯復(fù)合真空計;

3.真空極限

優(yōu)于 6.0×10-5Pa(空載,經(jīng)烘烤除氣后);

4.漏率

設(shè)備升壓率≤0.8Pa/h;

設(shè)備保壓:停泵 12 小時候后,真空≤10Pa;

5.抽速

(空載)從大氣抽至 5.0×10-3Pa≤15min;

6.基片臺尺寸

Φ150mm,自轉(zhuǎn)工位 3 個;

7.基片臺旋轉(zhuǎn)

基片旋轉(zhuǎn):0~20 轉(zhuǎn)/分鐘;

8.濺射靶

DN100 新型磁過濾多弧靶 2 套

9.脈沖偏壓電源

-1000V,1 套;

11.控制方式

PLC+觸摸屏人機界面半自動控制系統(tǒng);

12.報警及保護

對泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警并執(zhí)行相應(yīng)保護措施;完善 的邏輯程序互鎖保護系統(tǒng);

13.占地

(主機)L1900×W800×H1900(mm)。


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