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詳細介紹
| 品牌 | CYKY | 價格區間 | 5千-1萬 |
|---|---|---|---|
| 儀器種類 | 管式爐 | 產地類別 | 國產 |
| 應用領域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 |
三溫區立式管式爐是一種精密的高溫加熱設備,其核心特點在于能夠在一個反應管(通常是石英管或剛玉管)內沿軸向方向獨立地創建和精確控制三個不同的溫度區域。這種設計為復雜的材料制備和熱處理工藝提供了極大的靈活性和均勻性
該款管式爐CY-O1400-Φ100-200×200×200-V-T為立式三溫區管式爐,采用雙層風冷結構,爐體表面溫度≤60℃,采用高純氧化鋁多晶纖維制作爐膛,加熱元件為硅碳棒,可延長爐體使用壽命。整機結構合理,造型、操作簡單易學,是在多重氣氛或真空狀態下對金屬,非金屬及其化合物進行燒結、熔化、分析的理想產品。
應用領域
三溫區立式管式爐的多功能性和精確控制能力,使其在眾多前沿科技領域的研發與生產中成為關鍵設備。
材料科學與工程
納米材料合成:如碳納米管(CNTs)、石墨烯、納米線、量子點的化學氣相沉積(CVD)。通常利用溫度梯度來控制 nucleation(成核)和 growth(生長)過程。
鋰電池材料研究:正極材料(如NMC, LFP)的燒結、負極材料的碳化、固態電解質的制備。精確的氣氛控制可防止材料氧化或還原過度。
陶瓷材料燒結:如氧化鋯、氧化鋁等結構陶瓷或功能陶瓷的高溫致密化。
化學與催化
催化劑制備與活化:在特定溫度和氣氛下煅燒催化劑前驅體以形成活性相,或還原金屬催化劑(如將氧化鎳還原為金屬鎳)。
化學氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD):用于在基材上沉積各種功能的薄膜(如SiO?, Si?N?, 金屬薄膜)。
半導體與微電子
半導體工藝模擬:如晶圓的退火、氧化、擴散、合金化等工藝的研發和小批量試產。
LED材料制備:用于氮化鎵(GaN)等半導體材料的外延生長前處理。
物理學研究
晶體生長:利用其溫度梯度,通過氣相傳輸法(PVT)或布里奇曼-斯托克巴格法生長各種單晶。
超導材料研究:高溫超導材料(如YBCO)的燒結和氧退火處理。
能源與環境
燃料電池材料:如固體氧化物燃料電池(SOFC)電解質和電極材料的制備。
環境催化材料:用于處理廢氣、廢水的催化劑的開發和性能測試。

主要技術參數:
電 源 | AC220V, 50Hz |
整機功率: | 7.5KW |
爐體結構: | 雙層內膽式結構,可有效保持爐面溫度低于60℃ |
爐管材質: | 剛玉管(氧化鋁管) |
控制溫區 | 3溫區 |
爐管尺寸 | φ100×1100mm |
恒溫區長 | 400mm |
加熱元件 | 硅碳棒 |
*大使用溫度 | 1400℃(使用時須通入惰性氣體防止爐管形變) |
工作溫度 | ≤1300℃ |
溫度穩定誤差 | ≤±2℃ |
升溫速率 | 建議10℃/min |
控溫精度 | ±1℃ |
熱電偶 | S型 |
溫度控制器 | 采用觸摸屏控制,可預存多條加熱曲線,加熱曲線為程序PID自動控制,每條曲線包含有30段可編程的步驟,可**控制加熱速率,冷卻速度和停留時間。內置PID自動調節功能過熱斷線熱電偶斷開保護,超溫保護和報警,無需操作 |
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