單溫區旋轉PECVD石墨烯制備系統用于制備石墨烯，是一種 “低溫、直接生長" 的技術。它尤其適合在非金屬基底（如絕緣襯底）上生長石墨烯，避免了從金屬催化劑轉移的復雜過程

產品型號：CY-PECVD-50R-1200-Q
廠商性質：生產廠家
更新時間：2025-11-17
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單溫區旋轉PECVD石墨烯制備系統，安裝有真空自動投料器，爐管尾部預留KF40接口可以連接收料罐。投料器采用螺桿進料，可以以額定的速率將粉料送入爐管，投料速率可通過調節轉速來更改?？蓪崿F在氣氛保護的環境下連續對粉末材料用PECVD方法進行包裹和修飾。收料罐可以在氣氛保護環境下對處理好的料粉進行收集。

設備配有100W頻率13.56MHz的視頻電源。能夠在真空中產生等離子體。高能等離子體能夠活化樣品表面，有效的增強反應效果，提高反應速率，這種輔助方法廣泛用于石墨烯制備，顆粒包覆等科學實驗上。

本設備特別適合顆粒型樣品實驗，通過機械傳動能夠控制工作管360°不間斷連續旋轉，轉速可調，使得管內物料不斷的被攪拌混合，充分與氣體和等離子體接觸，使樣品的反應更加均勻穩定。

單溫區旋轉PECVD石墨烯制備系統技術參數：

射頻電源	輸出功率	150W
	輸出精度	±1%
	射頻頻率	13.56MHz
	射頻穩定度	±0.005%
	冷卻方式	風冷
1200℃單溫區管式爐	供電電壓	AC220V，50Hz
	*大功率	2KW
	加熱溫區	單個溫區200mm
	工作溫度	*高1200℃，連續運行溫度應≤1100℃
	控溫精度	±1℃
	控溫方式	AI-PID 30段工藝曲線，可存儲多條三溫區獨立控制，帶有過熱和斷偶保護
	爐管材質	高純石英
	爐管尺寸	φ50x800mm
	密封方式	真空不銹鋼法蘭、KF16法蘭
	可調轉速	0-20rpm
	傾斜角度	0-15°
	真空泵	旋片機械泵
	極限真空度	1.0E-1Pa
	進料方式	真空漏斗加螺桿進料

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