本設備為三源高真空熱蒸發鍍膜儀，設備采用前開門式真空腔體設計，腔體空間大，可拓展性強，能夠滿足多樣式大尺寸樣品的蒸發鍍膜。腔體內配有上置樣品臺，可根據用戶樣品樣式選取夾持或卡位式樣品安裝部件。樣品臺可旋轉、水冷，所有操作均通過觸控屏集成控制。設備的真空泵組為兩級式真空系統，由雙極旋片真空泵和渦輪分子泵組成，可為真空鍍膜試驗提供清潔無油的高真空的環境；真空系統內含有完善的氣動閥系統，用戶可通過觸控屏進行一鍵式操作實現抽取真空、不停機取放樣、停機等操作。

詳情介紹：

本設備的蒸發源共三組，采取鎢舟蒸發源，水冷式銅電極，加熱溫度*高可達1800℃，可實現多種難熔金屬的蒸鍍，三組獨立熱蒸發源，不會導致鍍材互相污染。本設備采用一體化設計，腔體和電控部分左右分置，實現了水電分離，有力的保證了用戶的**。電控部分采用觸控屏和按鈕面板相結合的設計，真空系統、樣品臺等輔助功能通過觸控屏一鍵操作，通電蒸發、膜厚控制等通過面板獨立操作，在盡可能方便用戶的同時規避了誤操作的可能。該設備設計完善性能，是實驗室高精度蒸發鍍膜試驗的之選。

高真空蒸發鍍膜儀應用領域：

金屬和介電膜,薄膜傳感器的制造,光學元件,納米與微電子,太陽能電池.

真空蒸發鍍膜儀技術參數：