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雙靶磁控濺射鍍膜儀
簡要描述:

雙靶磁控濺射鍍膜儀CY-600-2HD為我公司研發的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等。與同類設備相比,這款磁控濺射鍍膜儀不僅應用廣泛,切體積小便于操作,是一款實驗室制備薄膜的理想設備。

  • 產品型號:CY-MSH500- II-DCRF-SS
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-11-17
  • 訪  問  量:118

詳細介紹

品牌CYKY價格區間5萬-10萬
產地類別國產應用領域電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件

雙靶磁控濺射鍍膜儀CY-600-2HD為我公司研發的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等。與同類設備相比,這款雙靶磁控濺射鍍膜儀不僅應用廣泛,切體積小便于操作,是一款實驗室制備薄膜的理想設備。

產品特點  

1:此款鍍膜儀配置有兩個靶槍:一個靶槍配套的是射頻電源,用于非導電靶材的濺射鍍膜;一個靶槍配套的是直流電源,用于導電材料的濺射鍍膜  

2:該鍍膜儀可以制備多種不同材料的薄膜,應用非常廣泛。  

3:該鍍膜儀體積較小,且配備有觸摸屏控制面板,操作方便。  

產品參數:

項目

明細

產品型號

CY-MSH500- II-DCRF-SS

供電電壓

AC220V50Hz

整機功率

4KW

系統真空

5×10-4Pa

樣品臺

外形尺寸

φ140mm

加熱溫度

500℃

控溫精度

±1

可調轉速

20rpm

磁控靶槍

靶材尺寸

直徑Φ50.8mm,厚度3mm

冷卻模式

循環水冷

水流大小

不小于10L/Min

真空腔體

腔體尺寸

直徑φ500mm,高度560mm

腔體材質

SUU304不銹鋼

觀察窗口

直徑φ100mm

開啟方式

頂開式

氣體控制

1路質量流量計用于控制Ar流量,量程為:200SCCM

真空系統

配分子泵系統1套,氣體抽速600L/S

膜厚測量

可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ?

濺射電源

直流電源500W,射頻電源500W

控制系統

CYKY自研專業級控制系統

設備尺寸

600mm   × 650mm × 1280mm

設備重量

350kg





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