PECVD旋轉(zhuǎn)等離子加強(qiáng)CVD系統(tǒng)，爐管采用變徑設(shè)計(jì)，中部管徑較粗且有有混料隔板，能夠隨著爐管的旋轉(zhuǎn)將粉體或者顆粒反復(fù)混合，通過機(jī)械傳動(dòng)控制工作管能360°不間斷旋轉(zhuǎn)，使得管內(nèi)物料攪拌混合獲得均勻受熱效果；設(shè)備另配有等離子發(fā)生裝置，采用電感耦合與爐管連接，產(chǎn)生的等離子能夠滿布爐管，有效的提高反應(yīng)物活化能，降低反應(yīng)溫度，提高反應(yīng)效率。設(shè)備配有三路質(zhì)量流量計(jì)及混氣裝置，可用于向路管內(nèi)通入多種氣體，同時(shí)設(shè)備配有高性能機(jī)械泵，能夠快速將爐管抽至真空；通過泵和氣路的配合可以實(shí)現(xiàn)多種CVD工藝。旋轉(zhuǎn)裝置十分適合在氣氛保護(hù)的環(huán)境下連續(xù)對(duì)粉末材料用CVD方法進(jìn)行包裹和修飾。  

PECVD應(yīng)用領(lǐng)域：

1.微電子與半導(dǎo)體工業(yè)，介質(zhì)薄膜　低k介質(zhì)　多晶硅/非晶硅薄膜

2.光伏（太陽能電池）工業(yè)，氮化硅減反射鈍化膜　非晶硅/微晶硅薄膜太陽能電池

3.顯示技術(shù)（LCD/OLED），薄膜晶體管（TFT）陣列制造

4.光學(xué)領(lǐng)域，光學(xué)薄膜

PECVD優(yōu)點(diǎn):
1.沉積溫度低

2. 薄膜質(zhì)量高

3. 良好的臺(tái)階覆蓋性和溝槽填充能力

4. 沉積速率較快

5. 廣泛的材料體系

PECVD旋轉(zhuǎn)等離子加強(qiáng)CVD系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：