簡單介紹：

1200℃ 真空RTP退火爐是一款12寸片快速退火爐，采用革新的加熱技術，可實現真正的基底溫度測量，不需要采用傳統快速退火爐的溫度補償，溫度控制**，溫度重復性高，客戶包括國際上許多半導體公司及科研團隊，是半導體制程退火工藝的理想選擇

詳情介紹：

• 一些高溫陶瓷材料的燒結后處理可以使用 1200℃RTP 退火爐。例如，氧化鋁（Al?O?）陶瓷在燒結過程中可能會出現殘余應力，1200℃快速退火能夠有效消除這些殘余應力，提高陶瓷材料的機械性能，如強度和韌性。同時，對于含有添加劑的陶瓷材料，退火過程還可以促進添加劑在陶瓷基體中的均勻分布，進一步改善陶瓷的性能。

• 在某些金屬合金的熱處理中，1200℃RTP 退火爐也有應用。例如，對于一些高溫合金，在熔煉和成型后，1200℃的快速退火可以調整合金的組織結構，細化晶粒，提高合金的高溫性能，如高溫強度和抗蠕變性能。

技術特色：

• 真正的基片溫度測量，無需傳統的溫度補償

• 紅外鹵素管燈加熱

• 極其優異的加熱溫度**性與均勻性

• 快速數字PID溫度控制

• 不銹鋼冷壁真空腔室

• 系統穩定性好

• 帶觸摸屏的PC控制

• 兼容常壓和真空環境，真空度標準值為5×10-3Torr，采用二級分子泵真空度低至5×10-6Torr

• *高3路氣體（MFC控制）

• 沒有交叉污染，沒有金屬污染

技術參數：