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快速退火爐
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1200℃RTP退火爐是一款12寸片快速退火爐,采用革新的加熱技術,可實現真正的基底溫度測量,不需要采用傳統快速退火爐的溫度補償,溫度控制**,溫度重復性高,客戶包括國際上許多半導體公司及科研團隊,是半導體制程退火工藝的理想選擇
1200℃真空RTP退火爐是一款12寸片快速退火爐,采用革新的加熱技術,可實現真正的基底溫度測量,不需要采用傳統快速退火爐的溫度補償,溫度控制**,溫度重復性高,客戶包括國際上許多半導體公司及科研團隊,是半導體制程退火工藝的理想選擇
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