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PLD脈沖激光沉積蒸發鍍膜儀操作

發表時間：2025-08-07      點擊次數：542

PLD脈沖激光濺射沉積設備系列設備主要用于生長光學晶體、鐵電體、鐵磁體、超導體和有機化合物薄膜材料，尤其適用于生長高熔點、多元素及含有氣體元素的復雜層狀超晶格薄膜材料。

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