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電子束蒸發鍍膜儀
簡要描述:

電子束蒸發鍍膜儀系統主要由蒸發真空室、E型電子槍、熱蒸發電極、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。電子束蒸發鍍膜機可以廣泛應用于制備高純薄膜和導電玻璃等各種光學材料薄膜。

  • 產品型號:CY-EB
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-11-17
  • 訪  問  量:158

詳細介紹

品牌CYKY價格區間1-5萬
產地類別國產應用領域電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件

電子束蒸發鍍膜儀系統主要由蒸發真空室、E型電子槍、熱蒸發電極、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。電子束蒸發鍍膜機可以廣泛應用于制備高純薄膜和導電玻璃等各種光學材料薄膜。

電子束蒸發鍍膜儀設備用途:  

用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等,廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產。  

電子束蒸發鍍膜機技術參數:  

結構形式  

真空室采用U型箱體前開門,后置抽氣系統  

真空室  

500×500×600mm2  

真空系統配置  

復合分子泵、機械泵、閘板閥  

極限壓力  

≤6. 67×10-5Pa (經烘烤除氣后);  

恢復真空時間  

45分鐘可達到6. 67×10-4Pa (系統短時間暴露大氣并充干燥 氮氣后)  

 

電子束  

蒸發源  

e型電子槍  

陽極電壓:6kv、8kv;  

數量(套)  

1  

坩堝  

水冷式坩堝,四穴設計,每個容量11ml  

功率  

0一6 KW可調  

電阻蒸發源 (可選)  

電壓  

5、10V  

功率  

電流300A,*大輸出功率3KW  

數量  

1套,可切換  

水冷電極  

3根,組成2個蒸發舟  

工件架類型及尺寸  

基片尺寸:可放置4"基片,加熱zui高溫度800℃±1℃ ,基片可連續回轉,轉速5~60轉/分 基片與蒸發源之間距離300~350mm可調,手動控制樣品擋板組件1套  

氣路系統  

200SCCM質量流量控制器1路  

石英晶振膜厚控制儀  

監測膜厚顯示范圍:0~99 u 9999A;  

設備占地面積  

主機  

900×800mm2  

電控柜  

800×800mm2 (兩個)  

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