小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有小型化、標準化的特點。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基板的大小自主選擇；所配電源為150W直流電源，可用于金屬濺射鍍膜。鍍膜儀配有通氣接口，可以通入保護性氣體，若客戶需要通入混合氣體，可以聯系工作人員自行配置高精度質量流量計以滿足實驗需要。儀器標配的渦輪分子泵組，極限真空可達1.0E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。

本設備為單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。  

本套配置采用高真空不銹鋼腔體，腔體設置帶擋板的石英觀察窗，便于實驗的觀察記錄；腔體設計真空性能優良，造型小巧，十分適合實驗室使用。同時設備配有旋轉加熱樣品臺，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。整機采用模塊化設計，操作邏輯簡單，操作界面直觀，利于上手。  

單靶磁控濺射鍍膜儀適用范圍：  

該設備可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，經過小型化設計，高度集成，體積小巧，可以放置于桌面上使用，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。  

小型單靶磁控濺射鍍膜儀技術參數：