三靶向上磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

產品型號：CY-MSH325X-DCDCRF-SS
廠商性質：生產廠家
更新時間：2025-11-17
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品牌	CYKY	價格區間	10萬-30萬
產地類別	國產	應用領域	電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件

三靶向上磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的高性價比磁控濺鍍設備，具有標準化、模塊化、定制化的特點。該設備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等，三種靶材可以滿足多層或多層涂層的需要。與同類設備相比，三靶磁控濺射鍍膜儀不僅應用廣泛，而且具有體積小、操作方便等優點。它是實驗室制備材料薄膜的理想設備。

三靶向上磁控濺射鍍膜儀

三靶向上磁控濺射鍍膜儀技術參數：

項目		明細
產品型號		CY-MSH325X-DCDCRF-SS
供電電壓		AC220V，50Hz
整機功率		6KW
系統真空		≦5×10^-4Pa
樣品臺	外形尺寸	φ150mm
	加熱溫度	≦750℃
	控溫精度	±1℃
	可調轉速	≦20rpm
磁控靶槍	靶材尺寸	直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm
	冷卻模式	循環水冷
	水流大小	不小于10L/Min
	靶槍數量	3
真空腔體	腔體尺寸	直徑φ325mm，高度600mm
	腔體材質	SUU304不銹鋼
	觀察窗口	直徑φ100mm
	開啟方式	前面開啟
氣體控制	1路質量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM
真空系統	配分子泵系統1套，氣體抽速600L/S
膜厚測量	可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ?
濺射電源	直流電源功率500W*2，射頻電源功率300Ｗ
控制系統	CYKY自研專業級控制系統
真空計	電阻規真空計
設備尺寸	1090mm×900mm×1250mm
設備重量	350kg

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三靶向上磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

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