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桌面型偏置靶單靶磁控鍍膜儀
簡要描述:

桌面型偏置靶單靶磁控鍍膜儀配有一個直流電源,可用于金屬及其他導電材料的濺射。單靶磁控鍍膜儀真空系統采用渦輪分子泵組,抽氣速度快,極限真空度高,真空性能優異。本設備結構緊湊功能完善便于使用,非常適合用于各類鍍膜試驗

  • 產品型號:CY-MSZ300-I-DC-Q
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-11-17
  • 訪  問  量:222

詳細介紹

品牌CYKY價格區間5萬-10萬
產地類別國產應用領域電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件

本設備為桌面型偏置靶單靶磁控鍍膜儀,磁控靶偏置于腔體一側,濺射范圍可覆蓋樣品臺一半,通過樣品臺旋轉可以實現更大樣品的均勻鍍膜。理論*大支持樣品直徑為180mm。設備外形為桌面級別,大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源,可用于金屬及其他導電材料的濺射。設備真空系統采用渦輪分子泵組,抽氣速度快,極限真空度高,真空性能優異。本設備結構緊湊功能完善便于使用,非常適合用于各類鍍膜試驗。

磁控鍍膜儀典型應用:

•    科研領域:納米材料、薄膜器件、光學涂層等研究。

•    電子行業:半導體、傳感器、導電薄膜制備。

•    教學演示:材料科學、真空技術實驗教學。

•    以下是磁控鍍膜儀的典型實用案例,涵蓋科研、工業及教學領域,體現其多功能性和廣泛應用價值:

桌面型偏置靶單靶磁控鍍膜儀技術參數:  

 

CY-MSZ300G-I-DC-Q 桌面型大腔體偏置靶單靶磁控鍍膜儀  

樣品臺  

尺寸  

φ150mm  

轉速  

轉速0-20rpm可調  

磁控濺射靶  

數量  

2" x1  偏置于腔體一側  

真空腔體  

腔體尺寸  

φ300mm X 200mm  

觀察窗口  

全向可視  

腔體材料  

高純石英  

開啟方式  

頂蓋拆卸式  

下法蘭  

裝有旋轉式樣品臺及進出氣口  

真空系統  

機械泵  

雙級旋片泵  

抽氣接口  

KF16  

分子泵  

渦輪分子泵  

抽氣接口  

KF40  

真空測量  

電阻規+電離規復合真空計  

排氣接口  

KF40  

極限真空  

1.0E-3Pa  

供電電源  

AC 220V 50/60Hz  

抽氣速率  

前級泵 1.1L/s 分子泵:60L/S  

電源配置  

數量  

直流電源 x1  

*大輸出功率  

直流電源300W  

 

其他  

供電電壓  

AC220V,50Hz  

整機尺寸  

500mm X 320mm X6200mm  

整機功率  

2kW  


  




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