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3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀
簡要描述:

3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀是一種三頭1“射頻等離子體磁控濺射系統,設計用于非金屬薄膜涂層,主要用于多層氧化物薄膜。緊湊型磁控濺射鍍膜儀是研究新一代氧化薄膜*具成本效益的涂膜機。可根據金屬薄膜沉積要求選擇直流磁控濺射,可配置3個直流、1個射頻/ 2個直流和2個射頻/ 1個直流濺射頭。

  • 產品型號:CY-MSH325-III-DCDCRF-SS
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-11-17
  • 訪  問  量:259

詳細介紹

品牌CYKY價格區間10萬-30萬
產地類別國產應用領域電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件

3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀是一種三頭1"射頻等離子體磁控濺射系統,設計用于非金屬薄膜涂層,主要用于多層氧化物薄膜。緊湊型磁控濺射鍍膜儀是研究新一代氧化薄膜*具成本效益的涂膜機。可根據金屬薄膜沉積要求選擇直流磁控濺射,可配置3個直流、1個射頻/ 2個直流和2個射頻/ 1個直流濺射頭。

緊湊型磁控濺射鍍膜儀應用領域:  

這款緊湊型3靶磁控濺射鍍膜機專為在氧化物單晶基板上涂覆氧化物薄膜而設計,通常不需要高真空設置。  

3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀技術規格:  

項目

明細

產品型號

CY-MSH325-III-DCDCRF-SS

供電電壓

AC220V50Hz

整機功率

4KW

系統真空

5×10-4Pa

樣品臺

外形尺寸

φ140mm

加熱溫度

500℃

控溫精度

±1

可調轉速

20rpm

磁控靶槍

靶材尺寸

直徑Φ50.8mm,厚度3mm

冷卻模式

循環水冷

水流大小

不小于10L/Min

真空腔體

腔體尺寸

直徑φ325mm,高度500mm

腔體材質

SUU304不銹鋼

觀察窗口

直徑φ100mm

開啟方式

頂開式

氣體控制

1路質量流量計用于控制Ar流量,量程為:200SCCM

真空系統

配分子泵系統1套,氣體抽速600L/S

膜厚測量

可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ?

濺射電源

直流電源500W*2,射頻電源500W

控制系統

CYKY自研專業級控制系統

設備尺寸

600mm   × 650mm × 1280mm

設備重量

350kg



























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